铽溅射靶材

产品详情

铽溅射靶材是一种高纯度稀土功能材料，广泛应用于磁性材料、薄膜电容器、光学涂层及新能源等领域。产品以高纯金属铽为原料，通过精密熔炼、成型与加工工艺制备，具有优异的溅射性能、膜层均匀性与结构稳定性，适用于各类物理气相沉积工艺。

应用领域

1.磁性材料：用于巨磁阻材料、磁光存储及自旋电子器件中的功能薄膜。

2.薄膜电容器：应用于高频、高稳定性薄膜电容器的介电层制备。

3.光学薄膜：用于光学滤波器、激光器件及特种光学镀膜。

4.太阳能电池：用于提高光伏器件效率的光吸收与界面功能层。

5.磁记录与显示：应用于高密度磁记录介质与显示面板的功能薄膜。

6.科研与特种器件：用于磁致伸缩、磁制冷及特种传感器的薄膜开发。

属性（理论）

健康与安全信息

包装规格

定制包装：可根据客户需求提供专用包装方案，包括真空密封、惰性气体保护与防震结构。

关于铽溅射靶材

铽溅射靶材因其独特的磁光与电学性能，在高技术功能薄膜领域具有重要地位。其制备的薄膜在磁性存储、光学调控、新能源转换等方面表现出优异的性能，是现代电子、信息与能源器件中不可或缺的关键材料。我们提供多种规格与纯度等级的铽溅射靶材，支持按需定制，以服务科研创新与产业升级需求。