钐溅射靶材

产品详情

钐溅射靶材是一种高纯度稀土金属功能材料，广泛应用于透明导电薄膜、高反射率金属薄膜、半导体薄膜及特种功能涂层领域。产品以高纯金属钐为原料，经精密熔炼、成型与加工制备，具有高熔点、高硬度及优良导电性，适用于各类物理气相沉积工艺，成膜均匀致密、溅射稳定性好。

应用领域

1.透明导电薄膜：用于触摸屏、柔性显示、光伏器件等透明电极层。

2.高反射率金属薄膜：应用于光学反射镜、激光腔镜及特种光学器件。

3.半导体薄膜：用于集成电路、存储器及传感器功能层。

4.磁性薄膜：用于磁记录、磁传感器及自旋电子器件。

5.超导薄膜：用于高温超导器件及量子计算材料研究。

6.耐磨与防护涂层：用于工具、模具及机械部件表面强化。

属性（理论）

健康与安全信息

包装规格

定制包装：可根据客户需求提供专用包装方案，包括真空密封、惰性气体保护与防震结构。

关于钐溅射靶材

钐溅射靶材以其高熔点、高硬度和良好导电性在多种功能薄膜领域具有重要应用价值，尤其在透明导电、高反射光学及耐磨涂层等方面表现优异。我们提供多规格、高纯度钐靶材产品，支持定制化加工，满足科研与高端制造中对高性能薄膜材料的严苛需求。