镧溅射靶材

产品详情

镧溅射靶材是一种高纯度的功能材料，广泛应用于半导体、光学镀膜及科研领域。产品采用高纯金属镧经精密加工成型，具有优异的薄膜均匀性、致密性和溅射稳定性，适用于多种镀膜工艺（如磁控溅射、离子束溅射等）。

应用领域

1.半导体存储芯片：用于制备高介电常数氧化镧薄膜，解决存储器漏电问题，提升器件性能。

高纯镧靶材制备的氧化镧薄膜具有高介电常数(24-27)，且与Si衬底具有较大的界面壁垒，能有效解决存储器芯片的漏电问题。

2.光学镀膜：用于红外光学元件、抗反射涂层及特种玻璃镀膜。

3.科研实验：用于新材料研发、薄膜物理研究及表面工程。

4.电子元器件：用于薄膜电阻、电容及传感器制备。

属性（理论）

健康与安全信息

包装规格

定制包装：可根据客户需求提供特殊包装方案。

关于镧溅射靶材

镧溅射靶材是高端薄膜制备的关键原料，尤其在半导体存储芯片领域，其制备的氧化镧薄膜因具备高介电常数和优异的界面特性，成为解决微电子器件漏电问题的重要材料。我们提供全系列高纯度、多尺寸的靶材产品，并支持定制化加工，以满足科研与工业生产的多样化需求。