钪溅射靶材

产品详情

钪溅射靶材是一种高纯度的先进功能材料，广泛应用于铁电、压电、光学镀膜及特种半导体领域。产品采用高纯金属钪经精密加工成型，具有优异的薄膜均匀性、结构致密性和溅射稳定性，适用于多种物理气相沉积工艺（如磁控溅射、脉冲激光沉积等）。

应用领域

1.铁电薄膜器件：用于制备高性能铁电薄膜电容、存储器及传感器。

2.压电器件：应用于微机电系统（MEMS）、谐振器、滤波器及声表面波器件。

3.光学与电光调制：用于制备电光调制器、光学波导及特种光学涂层。

4.特种半导体：用于宽禁带半导体材料、氮化镓外延层及高频电子器件。

5.航空航天与国防：用于特种合金涂层、热障涂层及耐高温功能薄膜。

属性（理论）

健康与安全信息

包装规格

定制包装：可根据客户需求设计专用包装方案，包括真空密封、惰性气体保护及防震结构。

关于钪溅射靶材

钪溅射靶材是制备高性能铁电、压电及特种光学薄膜的核心原料，具有优异的介电、压电与光学性能，广泛应用于新一代信息器件、微纳系统与高端光学系统中。我们提供多种纯度、尺寸与形状的靶材产品，并支持技术定制与服务，以支持客户在科研与产业应用中的创新需求。